Glossar

Plasmaspritzen

Beim Plasmaspritzen wird zwischen einer Anode und einer Wolframkathode mittels Hochfrequenz ein Lichtbogen gezündet. Beim Plasmaspritzen wird zwischen den Elektroden das hindurchströmende Gas (Argon, Helium, Wasserstoff, Stickstoff oder Gemische) ionisiert, sodass ein mehrere Zentimeter langer Plasmastrahl entsteht. Die notwendige Prozessenergie des Plasmaspritzen resultiert aus der Dissoziation bzw. der Ionisation des am Lichtbogen vorbeiströmenden Gases oder Gasgemischs. Hierbei wird ein hochaufgeheiztes (bis 20.000°C), elektrisch leitendes Gas (Plasmajet) aus positiven Ionen und Elektronen erzeugt. In diesem erzeugten Plasmajet wird Pulver (übliche Kornverteilung: 5 – 120 μm, bei bestimmten Geräten ist auch eine Körnung von bis hinunter zu 100 nm möglich) eingedüst, das durch die hohe Plasmatemperatur aufgeschmolzen wird. Der Plasmastrom reißt beim Plasmaspritzen die Pulverteilchen mit und schleudert sie auf die zu beschichtende Oberfläche. Die Plasmabeschichtung beim Plasmaspritzen erfolgt sowohl in normaler Atmosphäre als auch unter Schutzgasatmosphäre (Argon). 

Ferner wird das Plasmaspritzen im Vakuum oder auch unter Wasser durchgeführt. Für die Schichtqualität einer plasmagespritzten Oberfläche sind die Geschwindigkeit, Temperatur sowie die Zusammensetzung des Plasmagases von Bedeutung. Der Prozess des Plasmaspritzens ist extrem laut und daher nur in einer Schallschutzkabine möglich bzw. sinnvoll und wird im Normalfall auch nur automatisiert durchgeführt.

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