Plasma spuiten

Bij plasmaspuiten wordt met hoge frequentie een boog ontstoken tussen een anode en een wolfraamkathode. Tijdens het plasmaspuiten wordt het gas dat tussen de elektroden doorstroomt (argon, helium, waterstof, stikstof of mengsels) geïoniseerd, wat resulteert in een plasmastraal van enkele centimeters lang. De procesenergie die nodig is voor plasmaspuiten is het resultaat van de dissociatie of ionisatie van het gas of gasmengsel dat langs de boog stroomt. Hier wordt een sterk verwarmd (tot 20.000°C), elektrisch geleidend gas (plasma jet) gegenereerd uit positieve ionen en elektronen. Poeder (gebruikelijke deeltjesgrootteverdeling: 5 – 120 m, bij bepaalde apparaten is ook een deeltjesgrootte tot 100 nm mogelijk) wordt in deze gegenereerde plasmastraal geïnjecteerd, die door de hoge plasmatemperatuur wordt gesmolten. Tijdens het plasmaspuiten neemt de plasmastroom de poederdeeltjes mee en werpt ze op het te coaten oppervlak. Plasmacoating tijdens plasmaspuiten vindt zowel plaats in een normale atmosfeer als in een atmosfeer van inert gas (argon).

Verder wordt het plasmaspuiten onder vacuüm of onder water uitgevoerd. De snelheid, temperatuur en samenstelling van het plasmagas zijn belangrijk voor de laagkwaliteit van een plasmagespoten oppervlak. Het proces van plasmaspuiten is extreem luidruchtig en daarom alleen mogelijk of zinvol in een geluiddichte cabine en wordt normaal gesproken alleen automatisch uitgevoerd.